高精度反射标记点,Hubbs测量反光点

Hubbs摄影测量反射靶标,标靶

作者:顶柱科技(上海)有限公司 文章来源:https://www.3d-china.cn/products/39.html 发布时间:2019-10-18
分享到
摄影测量靶标,目标中心为反射材料,可以在摄影测量仪器与跟踪仪配合测量时使用。 多种型号可选:普通型、带销型、球形

顶柱科技(上海)有限公司是一家专业3D数字化解决方案设备和技术服务商。
总部位于上海,在武汉、南京、沈阳、广州均设有分公司和办事处。
主要销售的产品为FARO三维扫描系统、美国Brunson准直光学仪器、激光跟踪仪测量配件、美国NRK公司的SA测量软件等工业产品。
服务涵盖:三维扫描、尺寸检测、逆向工程服务、扫描造型,抄数造型、产品测绘,产品结构设计、曲面设计。
上海总部地址:上海市嘉定区金沙江西路1555弄37号506室 
武汉分公司地址:武汉市江夏区藏龙岛办事处长咀科技园创新苑D座3楼
联系电话:19916596463 (蒋经理)
公司网址:www.3d-china.cn

产品介绍:

摄影测量靶标,目标中心为反射材料,可以在摄影测量仪器与跟踪仪配合测量时使用。

多种型号可选:普通型、带销型、球形

产品特点:


收藏
赞一下
0